omeno systems

 

為什麼選擇 Omneo？

高端製程對組件表面殘留污染物的敏感度日益增強。後續清除污染物的可行性取決於清潔方法的適用範圍。因此，OMNEO 為高科技產業在製程控制領域的供應鏈提供支援、建議、驗證、認證和審核。

OMNEO 擁有內部專業知識，能夠透過基於參考方法的殘餘氣體分析 (RGA) 來驗證（子）製程及相關添加劑。如果某組件或成分的顆粒沉積必須符合規定規範，OMNEO 也能發揮附加價值，一方面得益於其專業知識，另一方面得益於其自有的 PDM（顆粒沉積監測儀）。

此外，OMNEO 還專門根據適用於基礎研究中心、半導體工業、光學和電子光學等領域的規範，清潔更大、更複雜的零件（>600 毫米）。

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